课程介绍
课程内容
Si+4HF=SiF4↑+2H2↑。Si+6HF=2H+SiF6(2-)离子方程↑。氢氟酸是氟化氢气体的水溶液，具有清澈、无色、烟雾腐蚀性液体，具有强烈的刺激性气味。熔点-83.3℃，沸点19.5℃，密度1.15g/cm³。易溶于水、乙醇，微溶于乙醚。
拓展：
如果氢氟酸浓度较高，四氟化硅会形成氟硅酸(H2SiF6) 反应条件为室温，氢氟酸为弱酸，在室温下可与硅反应，但反应速率很小，不易检测，但反应速度迅速增加二氧化硅可与其反应，四氟化硅为气体.
Sio2+4HF=SiF4(g)+2H2O
在室温下，硅单晶在纯HF中的腐蚀速度很小，但在纯HF中加入一滴HNO3，腐蚀速度会大大提高。我做硅酸洗，我们的酸是HNO3和HF的混合酸。在此过程中，不是硅本身参与反应，而是硅表百面的金属杂质。涉及电化学腐蚀的知识。常用的非择优腐蚀剂配方为：HF(40-42%):HNO3(65%)=1:2.5其化学反应过程如下：Si+4HNO3+6HF=H2SiF6+4NO2+4H2O。
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